Лабораторная работа № 3. Исследование закономерностей электронной эмиссии при ионно-лучевом травлении наноразмерных гетероструктур

Поставить закладку

Если Вы наш подписчик,то для того чтобы скопировать текст этой страницы в свой конспект,
используйте просмотр в виде pdf. Вам доступно 3 стр. из этой главы.

Для продолжения работы требуется Регистрация

Предыдущая страница

Следующая страница

Лабораторная работа № 4. Исследование распределения толщины пленок по поверхности подложки и их структурных параметров при ионном распылении мишеней с помощью источника Кауфмана +

Лабораторная работа №5. Исследование угловой зависимости скорости ионно-лучевого распыления мишени и травления поверхности подложек +

Лабораторная работа 6. Электроискровое нанесение покрытий +

Лабораторная работа 7. Плазмохимическое травление диэлектрических пленок +

Библиографический список

Данный блок поддерживает скрол*