Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Элионная технология в микро- и наноиндустрии
Тема 2. Применение ионной имплантации
Поставить закладку
2.1. Особенности ионной технологии
Если Вы наш подписчик,то для того чтобы скопировать текст этой страницы в свой конспект,
используйте
просмотр в виде pdf
. Вам доступно 5 стр. из этой главы.
Для продолжения работы требуется
Регистрация
Предыдущая страница
Следующая страница
Оглавление
Предисловие
Тема 1. Ионно-плазменное осаждение слоев
+
Тема 2. Применение ионной имплантации
-
2.1. Особенности ионной технологии
2.2. Применение ионного легирования в планарной технологии
2.3. Имплантация примеси в многослойные гетерокомпозиции
Тема 3. Особенности применения электронных процессов в электронике
+
Тема 4. Литографические методы в микро- и наноэлектронике
+
Заключение
Библиографический список
Данный блок поддерживает скрол*