Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Элионная технология в микро- и наноиндустрии
Тема 1. Ионно-плазменное осаждение слоев
Поставить закладку
1.1. Стимулированное плазмой осаждение пленок оксидов
Для продолжения работы требуется
Регистрация
Предыдущая страница
Следующая страница
Оглавление
Предисловие
Тема 1. Ионно-плазменное осаждение слоев
-
1.1. Стимулированное плазмой осаждение пленок оксидов
1.2. Плазмохимическое осаждение пленок нитридов
1.3. Электроискровое нанесение слоев
Тема 2. Применение ионной имплантации
+
Тема 3. Особенности применения электронных процессов в электронике
+
Тема 4. Литографические методы в микро- и наноэлектронике
+
Заключение
Библиографический список
Данный блок поддерживает скрол*