Поиск
Закладки
Озвучивание недоступно Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Информационно-измерительная техника и электроника

РАЗДЕЛ IV. СХЕМОТЕХНИКА И ТЕХНОЛОГИИ ПРОИЗВОДСТВА ИМС

Предыдущая страница

Следующая страница

РАЗДЕЛ IV. СХЕМОТЕХНИКА И ТЕХНОЛОГИИ ПРОИЗВОДСТВА ИМС
На предыдущую главу Предыдущая глава
оглавление
Следующая глава На следующую главу

Оглавление

РАЗДЕЛ IV. СХЕМОТЕХНИКА И ТЕХНОЛОГИИ ПРОИЗВОДСТВА ИМС-
Глава 1. Основы развития современной микроэлектроники
IV.1.1. Компоненты микроэлектроники и современные основания развития микроэлектроники
IV.1.2. Этапы совершенствования и "ступени интеграции" электронной аппаратуры
IV.1.3. Ключевые технологии производства интегральных микросхем (ИМС)
IV.1.4. Методы изоляции элементов ИМС
IV.1.5. Большие и сверхбольшие интегральные схемы
Глава 2. Литография - базовый инструмент планарной технологии производства ИМС
IV.2.1. Фотолитография
IV.2.2. Этапы фотолитографического процесса
IV.2.3. Виды и технологии литографии
Глава 3. Технологические возможности и ограничения миниатюризации ИМС
IV.3.1. Процесс создания совершенных кристаллов
IV.3.2. Окисление
IV.3.3. Литография и травление
IV.3.4. Легирование
IV.3.5. Металлизация, напыление и нанесение пленок
IV.3.6. Подготовка кристаллов ИМС к сборке в корпусах
Глава 4. Критерии и ограничения миниатюризации изделий микроэлектроники
IV.4.1. Критерии миниатюризации ИМС
IV.4.2. Технологические ограничения производства и миниатюризации изделий микроэлектроники
IV.4.3. Топологические пределы микроминиатюризации
IV.4.4. Физические пределы микроминиатюризации
IV.4.5. От микроэлектроники и микроэлектронных технологий к наноэлектронике и наноэлектронным технологиям
Резюме
Данный блок поддерживает скрол*