Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
ГЛАВА 5. Изменение свойств поверхности различных материалов при обработке в источнике ICP
Предыдущая страница
Следующая страница
Оглавление
Введение
ГЛАВА 1. Современные источники плазмы для технологических применений. Преимущества источников ICP
ГЛАВА 2. Конструкции антенн источников ICP
ГЛАВА 3. Нанесение тонких пленок с ассистированием источником ICP
ГЛАВА 4. Плазмохимическое травление различных материалов с помощью источников ICP
ГЛАВА 5. Изменение свойств поверхности различных материалов при обработке в источнике ICP
Заключение
Список литературы
Данный блок поддерживает скрол*