Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
ГЛАВА 3. Нанесение тонких пленок с ассистированием источником ICP
Поставить закладку
Если Вы наш подписчик,то для того чтобы скопировать текст этой страницы в свой конспект,
используйте
просмотр в виде pdf
. Вам доступно 13 стр. из этой главы.
Для продолжения работы требуется
Регистрация
Предыдущая страница
Следующая страница
Оглавление
Введение
ГЛАВА 1. Современные источники плазмы для технологических применений. Преимущества источников ICP
ГЛАВА 2. Конструкции антенн источников ICP
ГЛАВА 3. Нанесение тонких пленок с ассистированием источником ICP
ГЛАВА 4. Плазмохимическое травление различных материалов с помощью источников ICP
ГЛАВА 5. Изменение свойств поверхности различных материалов при обработке в источнике ICP
Заключение
Список литературы
Данный блок поддерживает скрол*