Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
ГЛАВА 2. Конструкции антенн источников ICP
Поставить закладку
Для продолжения работы требуется
Регистрация
Предыдущая страница
Следующая страница
Оглавление
Введение
ГЛАВА 1. Современные источники плазмы для технологических применений. Преимущества источников ICP
ГЛАВА 2. Конструкции антенн источников ICP
ГЛАВА 3. Нанесение тонких пленок с ассистированием источником ICP
ГЛАВА 4. Плазмохимическое травление различных материалов с помощью источников ICP
ГЛАВА 5. Изменение свойств поверхности различных материалов при обработке в источнике ICP
Заключение
Список литературы
Данный блок поддерживает скрол*