Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением
Глава 4. Изменение электрических параметров реактивного разряда при изменении состояния поверхности мишени
Поставить закладку
4.1. О корреляции электрических параметров реактивного разряда и величины парциального давления реактивного газа
Для продолжения работы требуется
Регистрация
Предыдущая страница
Следующая страница
Оглавление
Сведения об авторах
Введение. Особенности реактивного магнетронного распыления
Глава 1. Причины нестабильности реактивного распыления
+
Глава 2. Механизмы взаимодействия реактивного газа с поверхностью мишени
+
Глава 3. Стабилизация и управление реактивным разрядом с помощью внешних по отношению к разряду устройств контроля
+
Глава 4. Изменение электрических параметров реактивного разряда при изменении состояния поверхности мишени
-
4.1. О корреляции электрических параметров реактивного разряда и величины парциального давления реактивного газа
4.2. Изменение сопротивления реактивного разряда при образовании нитридов на поверхности мишени
4.3. Изменение сопротивления реактивного разряда при образовании окислов на поверхности мишени
4.4. Немонотонное изменение сопротивления разряда при росте концентрации реактивного газа
4.5. Изменение сопротивления реактивного разряда при образовании оксинитридов, карбидов и других соединений на поверхности мишени
Глава 5. Стабилизация процесса реактивного магнетронного распыления по электрическим параметрам разряда
+
Глава 6. Достижение долговременной стабильности процесса реактивного магнетронного распыления
+
Глава 7. Влияние температуры мишени на процесс реактивного распыления
+
Глава 8. Влияние температуры подложки на скорость роста и состав пленки в реактивном процессе
Глава 9. Особенности проведения, контроля и стабилизации реактивного HiPIMS-процесса
+
Глава 10. Альтернативные способы устранения гистерезиса из характеристик реактивного процесса
+
Глава 11. Некоторые способы повышения эффективности процессов реактивного нанесения тонких пленок
+
Глава 12. Заключительная
+
Литература
Данный блок поддерживает скрол*