Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Фотонно-стимулированные технологические процессы микро- и нанотехнологии
6. Лазерное осаждение металлов
Предыдущая страница
Следующая страница
Оглавление
Введение
1. Взаимодействие фотонного излучения с полупроводниковой поверхностью
+
2. Рекристаллизация аморфных и поликристаллических кремниевых слоев лазерным излучением
+
3. Лазерное легирование
4. Лазерно-стимулированное формирование контактов
+
5. Лазерно-стимулированное осаждение диэлектрических пленок
+
6. Лазерное осаждение металлов
-
6.1. Вакуумное лазерное осаждение металлов
6.2. Лазерное локальное осаждение металлических пленок
6.3. Импульсное осаждение пленок алюминия из газовой фазы
6.4. Осаждение пленок вольфрама
6.5. Осаждение вольфрамовых контактов на сложные полупроводники
7. Лазерно-стимулированные эпитаксиальные процессы осаждения кремниевых слоев
+
8. Лазерно-стимулированное осаждение эпитаксиальных слоев соединений АIIIВV и АIIВVI
+
9. Лазерная технология создания перспективной элементной базы СБИС. Планаризация микроструктур
+
Заключение
Список литературы
Данный блок поддерживает скрол*