Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Фотонно-стимулированные технологические процессы микро- и нанотехнологии
2. Рекристаллизация аморфных и поликристаллических кремниевых слоев лазерным излучением
Предыдущая страница
Следующая страница
Оглавление
Введение
1. Взаимодействие фотонного излучения с полупроводниковой поверхностью
+
2. Рекристаллизация аморфных и поликристаллических кремниевых слоев лазерным излучением
-
2.1. Лазерная рекристаллизация полупроводников
2.2. Импульсная лазерная кристаллизация аморфных слоев
2.3. Лазерная кристаллизация поликремниевых лент
2.4. Лазерный отжиг структур
2.5. Механизмы отжига имплантированных полупроводниковых структур
3. Лазерное легирование
4. Лазерно-стимулированное формирование контактов
+
5. Лазерно-стимулированное осаждение диэлектрических пленок
+
6. Лазерное осаждение металлов
+
7. Лазерно-стимулированные эпитаксиальные процессы осаждения кремниевых слоев
+
8. Лазерно-стимулированное осаждение эпитаксиальных слоев соединений АIIIВV и АIIВVI
+
9. Лазерная технология создания перспективной элементной базы СБИС. Планаризация микроструктур
+
Заключение
Список литературы
Данный блок поддерживает скрол*