Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Физика СВЧ вакуумно-плазменных нанотехнологий
Глава 5. Сверхвысокочастотное плазмохимическое травление
Предыдущая страница
Следующая страница
Оглавление
Введение
Глава 1. Физико-технические основы создания СВЧ плазменных устройств c электронным циклотронным резонансом
+
Глава 2. Взаимодействие электромагнитных волн с плазмой во внешнем магнитном поле
+
Глава 3. Диффузионная модель СВЧ газового разряда и ее применение в технологических процессах
+
Глава 4. Характеристики СВЧ-плазмы в магнитном поле
+
Глава 5. Сверхвысокочастотное плазмохимическое травление
-
§5.1.Классификация процессов ионно-плазменного травления
§5.2.Низкоэнергетичное травление соединений А3В5 в хлорсодержащем газовом СВЧ-разряде
§5.3.Сверхвысокочастотное ВПТ металлических пленок
§5.4.Плазмостойкость резистов при СВЧ ВПТ
Глава 6. Сверхвысокочастотное плазмохимическое травление кремниевых материалов
+
Глава 7. Плазмохимический СВЧ-синтез низкоразмерных гетероструктур на основе кремния и его соединений
+
Глава 8. Плазмохимический СВЧ-синтез низкоразмерных углеродных структур различных аллотропных модификаций
+
Список литературы
Данный блок поддерживает скрол*