Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Физика СВЧ вакуумно-плазменных нанотехнологий
Глава 1. Физико-технические основы создания СВЧ плазменных устройств c электронным циклотронным резонансом
Поставить закладку
§1.1.Распространение СВЧ-колебаний в плазменных волноводных устройствах
Для продолжения работы требуется
Регистрация
Предыдущая страница
Следующая страница
Оглавление
Введение
Глава 1. Физико-технические основы создания СВЧ плазменных устройств c электронным циклотронным резонансом
-
§1.1.Распространение СВЧ-колебаний в плазменных волноводных устройствах
§1.2.Согласование элементов волноводного тракта
§1.3.Одномодовые СВЧ плазменные устройства
§1.4.Передача СВЧ-энергии и пробой в круглом волноводе-реакторе
§1.5.Многомодовые СВЧ плазменные устройства
Глава 2. Взаимодействие электромагнитных волн с плазмой во внешнем магнитном поле
+
Глава 3. Диффузионная модель СВЧ газового разряда и ее применение в технологических процессах
+
Глава 4. Характеристики СВЧ-плазмы в магнитном поле
+
Глава 5. Сверхвысокочастотное плазмохимическое травление
+
Глава 6. Сверхвысокочастотное плазмохимическое травление кремниевых материалов
+
Глава 7. Плазмохимический СВЧ-синтез низкоразмерных гетероструктур на основе кремния и его соединений
+
Глава 8. Плазмохимический СВЧ-синтез низкоразмерных углеродных структур различных аллотропных модификаций
+
Список литературы
Данный блок поддерживает скрол*