Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Плазменное оборудование для нанотехнологий
Глава 2. ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ НАНОСТРУКТУРИРОВАННЫХ ПОКРЫТИЙ
Поставить закладку
2.1. УСТАНОВКА ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЙ МЕТОДОМ КОНДЕНСАЦИИ ИЗ ПЛАЗМЕННОЙ ФАЗЫ С ИОННОЙ БОМБАРДИРОВКОЙ (КИБ)
Если Вы наш подписчик,то для того чтобы скопировать текст этой страницы в свой конспект,
используйте
просмотр в виде pdf
. Вам доступно 3 стр. из этой главы.
Для продолжения работы требуется
Регистрация
Предыдущая страница
Следующая страница
Оглавление
ВВЕДЕНИЕ
Глава 1. ОБЩИЕ СВЕДЕНИЯ О ПОКРЫТИЯХ
+
Глава 2. ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ НАНОСТРУКТУРИРОВАННЫХ ПОКРЫТИЙ
-
2.1. УСТАНОВКА ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЙ МЕТОДОМ КОНДЕНСАЦИИ ИЗ ПЛАЗМЕННОЙ ФАЗЫ С ИОННОЙ БОМБАРДИРОВКОЙ (КИБ)
2.2. УСТАНОВКА ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЙ МЕТОДОМ МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ
2.3. ВЫСОКОЧАСТОТНАЯ ЕМКОСТНАЯ УСТАНОВКА
Глава 3. ОБЗОР РАБОЧИХ КАМЕР ДЛЯ ВАКУУМНОГО И ПЛАЗМЕННОГО ОБОРУДОВАНИЯ ОТЕЧЕСТВЕННОГО И ЗАРУБЕЖНОГО ПРОИЗВОДСТВА
+
Глава 4. ЭЛЕКТРОСИЛОВЫЕ ИСТОЧНИКИ ВАКУУМНЫХ И ПЛАЗМЕННЫХ УСТАНОВОК НАНОТЕХНОЛОГИЙ
+
Глава 5. ОСНАСТКА ВАКУУМНЫХ КАМЕР И ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ И ТРАНСПОРТИРОВАНИЯ ПОРОШКОВЫХ МАТЕРИАЛОВ
+
ЛИТЕРАТУРА
Данный блок поддерживает скрол*