Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Процессы микро- и нанотехнологии. Ионно-плазменные процессы
Лабораторная работа № 2. Формирование металлических пленок методом катодного распыления
Поставить закладку
2.1. Теоретическое введение
Если Вы наш подписчик,то для того чтобы скопировать текст этой страницы в свой конспект,
используйте
просмотр в виде pdf
. Вам доступно 3 стр. из этой главы.
Для продолжения работы требуется
Registration
Предыдущая страница
Следующая страница
Table of contents
Лабораторная работа № 1. Нанесение пленок магнетронным распылением мишеней
+
Лабораторная работа № 2. Формирование металлических пленок методом катодного распыления
-
2.1. Теоретическое введение
2.2. Конструкция установки и используемые материалы
2.4. Оформление результатов
Контрольные вопросы
Лабораторная работа № 3. Исследование закономерностей электронной эмиссии при ионно-лучевом травлении наноразмерных гетероструктур
+
Лабораторная работа № 4. Исследование распределения толщины пленок по поверхности подложки и их структурных параметров при ионном распылении мишеней с помощью источника Кауфмана
+
Лабораторная работа №5. Исследование угловой зависимости скорости ионно-лучевого распыления мишени и травления поверхности подложек
+
Лабораторная работа 6. Электроискровое нанесение покрытий
+
Лабораторная работа 7. Плазмохимическое травление диэлектрических пленок
+
Библиографический список
Данный блок поддерживает скрол*