Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Элионная технология в микро- и наноиндустрии
Тема 4. Литографические методы в микро- и наноэлектронике
Поставить закладку
4.1. Возможности оптической литографии
Если Вы наш подписчик,то для того чтобы скопировать текст этой страницы в свой конспект,
используйте
просмотр в виде pdf
. Вам доступно 13 стр. из этой главы.
Для продолжения работы требуется
Registration
Предыдущая страница
Следующая страница
Table of contents
Предисловие
Тема 1. Ионно-плазменное осаждение слоев
+
Тема 2. Применение ионной имплантации
+
Тема 3. Особенности применения электронных процессов в электронике
+
Тема 4. Литографические методы в микро- и наноэлектронике
-
4.1. Возможности оптической литографии
4.2. Электронно-лучевая литография
4.3. Голографическая и рентгеновская литография
4.4. Ионно-лучевая литография
4.5. Ограничения процессов в литографии
4.6. Примеры получения устройств микро- и наноиндустрии
Заключение
Библиографический список
Данный блок поддерживает скрол*