Тема 4. Возможности ионно-плазменных процессов для создания элементов микро - и наноэлектроники

Поставить закладку

4.1. Получение слоисто-однородных структур

Если Вы наш подписчик,то для того чтобы скопировать текст этой страницы в свой конспект,
используйте просмотр в виде pdf. Вам доступно 20 стр. из этой главы.

Для продолжения работы требуется Registration

Предыдущая страница

Следующая страница

Тема 1. Вакуум-плазменные процессы травления материалов +

Тема 2. Вакуум -плазменное нанесение тонких пленок +

Тема 3. Ионный синтез и ионная кристаллизация +

Тема 4. Возможности ионно-плазменных процессов для создания элементов микро - и наноэлектроники -

4.1. Получение слоисто-однородных структур

4.2. Получение гетероструктур с внутренней топологией (танталовая технология)

Заключение
Библиографический список

Данный блок поддерживает скрол*

Тема 4. Возможности ионно-плазменных процессов для создания элементов микро - и наноэлектроники

Table of contents