Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Ионно-плазменная обработка материалов
Тема 3. Ионный синтез и ионная кристаллизация
Поставить закладку
3.1. Радиационно-стимулированная диффузия
Если Вы наш подписчик,то для того чтобы скопировать текст этой страницы в свой конспект,
используйте
просмотр в виде pdf
. Вам доступно 6 стр. из этой главы.
Для продолжения работы требуется
Registration
Предыдущая страница
Следующая страница
Table of contents
Тема 1. Вакуум-плазменные процессы травления материалов
+
Тема 2. Вакуум -плазменное нанесение тонких пленок
+
Тема 3. Ионный синтез и ионная кристаллизация
-
3.1. Радиационно-стимулированная диффузия
3.2. Ионно-активируемый синтез тонких пленок
3.3. Особенности имплантации ионов для синтеза соединений
3.4. Характеристика ионно-плазменных методов синтеза соединений
3.5. Влияние параметров ионно-лучевого синтеза на формирование скрытых слоев CoSi2 в кремнии
Тема 4. Возможности ионно-плазменных процессов для создания элементов микро - и наноэлектроники
+
Заключение
Библиографический список
Данный блок поддерживает скрол*