Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Микро- и нанотехнологии на основе когерентных и некогерентных источников излучения
2. Источники лазерного излучения и лазерное оборудование
Поставить закладку
2.1. Технические требования и области применения лазерных источников
Для продолжения работы требуется
Registration
Предыдущая страница
Следующая страница
Table of contents
1. Быстрая термическая обработка полупроводниковых структур
+
2. Источники лазерного излучения и лазерное оборудование
-
2.1. Технические требования и области применения лазерных источников
2.2. Особенности твердотельных лазеров
2.3. Особенности газовых лазеров
2.4. Лазерное оборудование для сканирующего контроля микроструктур
3. Формирование субмикронных структур лазерным лучом в форме линии
4. Применение твердотельного зеленого лазера для рекристаллизации пленок аморфного кремния
5. Формирование графена на кремниевой подложке с использованием лазерного излучения
6. Гибкие многослойные графеновые суперконденсаторы
7. Супергидрофильные и супергидрофобные графеновые поверхности, сформированные лазерным излучением
8. Получение графена на поверхности карбида кремния с использованием излучения СО2-лазера
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ
Данный блок поддерживает скрол*