Поиск
Закладки
Озвучивание недоступно Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Электроника и микроэлектроника. Физикотехнологические основы.

Глава 5. Управление диффузионными и кинетическими процессами

Предыдущая страница

Следующая страница

Глава 5. Управление диффузионными и кинетическими процессами
На предыдущую главу Предыдущая глава
оглавление
Следующая глава На следующую главу

Table of contents

Глава 5. Управление диффузионными и кинетическими процессами-
5.1. Термоактивационные процессы. Закон Аррениуса
5.2.Механизм кинетики химических реакций. Уравнение Аррениуса
5.3.Механизмы диффузии атомов в твердом теле
5.4. Законы Фика. Начальные и граничные условия в задачах диффузии
5.5. Диффузионные задачи на удаление вещества из твердого тела
5.6. Принципы вакуумного обезгаживания материалов
5.7. Роль диффузии в газопроницаемости вакуумных оболочек
5.8. Диффузионные задачи на введение вещества в твердое тело
5.9. Принципы диффузионного легирования полупроводников
5.10. Диффузионная и химическая кинетика гетерогенных процессов
5.11.Маскирующие свойства слоев двуокиси кремния
5.12. Кинетика термического окисления кремния
5.13. Кинетика химического травления полупроводников
5.14. Принципы выращивания монокристаллических слоев методами жидкофазной и газофазной эпитаксии
5.15. Кинетика химического транспорта веществ в проточных системах
5.16. Кинетика химического транспорта веществ в сэндвич-системах
5.17. Кинетика процессов в электрохимических системах
Данный блок поддерживает скрол*