Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур
1. Математическое моделирование фотолитографических процессов при создании субмикронных структур с нанометровым размером
Предыдущая страница
Следующая страница
Table of contents
1. Математическое моделирование фотолитографических процессов при создании субмикронных структур с нанометровым размером
-
1.1. Оптическая литография. Проекционная литография. Формирование изображения
1.2. Формирования изображения в фоторезисте. Моделирование
1.3. Экспонирование
1.4. Моделирование процесса травления фоторезиста
1.5. Ограничение оптической литографии
2. Математическое моделирование процессов электронной литографии
+
Библиографический список
Данный блок поддерживает скрол*