Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Элионная технология в микро- и наноиндустрии : ускоренные ионы
4. Легирование наноразмерных гетероструктур атомами отдачи и ускоренными ионами
Предыдущая страница
Следующая страница
Table of contents
Предисловие
1. Общие основы физики взаимодействия ускоренных ионов с твердым телом
+
2. Пробеги ионов в твердом теле
+
3. Структурные дефекты в твердом теле при ионном внедрении
+
4. Легирование наноразмерных гетероструктур атомами отдачи и ускоренными ионами
-
4.1. Моделирование профилей распределения атомов отдачи и бомбардирующих ионов в подложке при воздействии ионных пучков на структуры "пленка - подложка"
4.2. Легирование подложки бомбардирующими ионами и атомами отдачи при воздействии ионных пучков на структуры "пленка - подложка"
4.3. Практическое применение ионной имплантации
Библиографический список
Приложение 1. Темы практических занятий и домашних заданий к главе 2
Приложение 2. Аппроксимирующие полиномы для расчета параметров распределений основных примесей в кремнии
Данный блок поддерживает скрол*