Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Элионная технология в микро- и наноиндустрии : неразрушающие методы контроля процессов осаждения и травления наноразмерных пленочных гетерокомпозиций
2. Ионно-индуцированный ток в многослойных наноразмерных пленочных гетероструктурах в процессах ионно-лучевого нанесения и травления
Предыдущая страница
Следующая страница
Table of contents
Перечень сокращений
Введение
1. Традиционные методы и способы контроля процессов ионно-плазменной обработки материалов электронной техники
+
2. Ионно-индуцированный ток в многослойных наноразмерных пленочных гетероструктурах в процессах ионно-лучевого нанесения и травления
-
2.1. Методика определения закономерностей возникновения ионно-индуцированного тока
2.2. Особенности изменения ионно-индуцированного тока при ионной очистке поверхности
2.3. Закономерности изменения ионно-индуцированного тока при ионно-лучевом травлении гетероструктур
2.4. Закономерности изменения ионно-индуцированного тока при нанесении пленок ионным распылением
2.5. Феноменологическая модель возникновения ионно-индуцированного тока
Контрольные вопросы
Домашние задания
3. Вторичная ионно-электронная эмиссия в процессе ионно-лучевого травления наноразмерных гетерокомпозиций
+
Заключение
Библиографический список
Данный блок поддерживает скрол*