Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Технология тонких пленок для микро- и наноэлектроники
Глава 5. Обобщения и практические рекомендации для решения технологических задач
Для продолжения работы требуется
Registration
Предыдущая страница
Следующая страница
Table of contents
Введение
Глава 1. Основные тенденции развития методов ХОГФ тонких пленок из газовой фазы
+
Глава 2. Общая характеристика методов ХОГФ
+
Глава 3. Параметры аппаратуры и процессов ХОГФ
+
Глава 4. Методология и исследования кинетики роста тонких пленок при ХОГФ
+
Глава 5. Обобщения и практические рекомендации для решения технологических задач
-
5.1. Обобщения исследований кинетики роста кремнийсодержащих ТП
5.2. Управление процессами ХОГФ
5.2.1. Высокоскоростные реакции ХОГФ - процессы группы Д
5.2.2. Низкоскоростная реакция ХОГФ - процессы групп А-В
5.3. Общие закономерности взаимосвязи кинетики роста и свойств ТП
5.4. Импульсные процессы ХОФГ
5.5. Импульсные процессы АСО
Заключение по главе 5
Вопросы для самопроверки по главе 5
Дополнительная литература к главе 5
Библиографический список
Данный блок поддерживает скрол*