Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Технология тонких пленок для микро- и наноэлектроники
Глава 5. Обобщения и практические рекомендации для решения технологических задач
Поставить закладку
5.1. Обобщения исследований кинетики роста кремнийсодержащих ТП
Если Вы наш подписчик,то для того чтобы скопировать текст этой страницы в свой конспект,
используйте
просмотр в виде pdf
. Вам доступно 4 стр. из этой главы.
Для продолжения работы требуется
Registration
Предыдущая страница
Следующая страница
Table of contents
Введение
Глава 1. Основные тенденции развития методов ХОГФ тонких пленок из газовой фазы
+
Глава 2. Общая характеристика методов ХОГФ
+
Глава 3. Параметры аппаратуры и процессов ХОГФ
+
Глава 4. Методология и исследования кинетики роста тонких пленок при ХОГФ
+
Глава 5. Обобщения и практические рекомендации для решения технологических задач
-
5.1. Обобщения исследований кинетики роста кремнийсодержащих ТП
5.2. Управление процессами ХОГФ
5.2.1. Высокоскоростные реакции ХОГФ - процессы группы Д
5.2.2. Низкоскоростная реакция ХОГФ - процессы групп А-В
5.3. Общие закономерности взаимосвязи кинетики роста и свойств ТП
5.4. Импульсные процессы ХОФГ
5.5. Импульсные процессы АСО
Заключение по главе 5
Вопросы для самопроверки по главе 5
Дополнительная литература к главе 5
Библиографический список
Данный блок поддерживает скрол*