Глава 1. ФИЗИКО-ХИМИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ ПОЛУЧЕНИЯ ВЫСОКОЧИСТЫХ ВЕЩЕСТВ И МАТЕРИАЛОВ ДЛЯ ЭЛЕКТРОННОЙ ТЕХНИКИ

Поставить закладку

Если Вы наш подписчик,то для того чтобы скопировать текст этой страницы в свой конспект,
используйте просмотр в виде pdf. Вам доступно 35 стр. из этой главы.

Для продолжения работы требуется Registration

Предыдущая страница

Следующая страница

Глава 1. ФИЗИКО-ХИМИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ ПОЛУЧЕНИЯ ВЫСОКОЧИСТЫХ ВЕЩЕСТВ И МАТЕРИАЛОВ ДЛЯ ЭЛЕКТРОННОЙ ТЕХНИКИ

Глава 2. ТЕХНОЛОГИЯ АБРАЗИВНОЙ И ХИМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПОДЛОЖЕК

Глава 3. БАЗОВЫЕ ТЕХНОЛОГИИ ФОРМИРОВАНИЯ ПРИБОРНЫХ СТРУКТУР

Глава 4. СТРУКТУРЫ "КРЕМНИЙ НА ДИЭЛЕКТРИКЕ" И ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ МЕТОДЫ ИХ ИЗГОТОВЛЕНИЯ

Глава 5. ФИЗИЧЕСКИЕ И ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ НАНОЭЛЕКТРОНИКИ

Глава 6. СТРУКТУРНЫЕ ДЕФЕКТЫ В МАТЕРИАЛАХ - КОМПОНЕНТАХ ПРИБОРНЫХ КОМПОЗИЦИЙ

Контрольные вопросы

Список рекомендуемой литературы

Данный блок поддерживает скрол*

Глава 1. ФИЗИКО-ХИМИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ ПОЛУЧЕНИЯ ВЫСОКОЧИСТЫХ ВЕЩЕСТВ И МАТЕРИАЛОВ ДЛЯ ЭЛЕКТРОННОЙ ТЕХНИКИ

Table of contents