Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Лазеры в микроэлектронике
1. Лазерная обработка полупроводников с целью рекристаллизации и отжига
Поставить закладку
1.1. Поглощение лазерного излучения полупроводниками и диэлектриками
Если Вы наш подписчик,то для того чтобы скопировать текст этой страницы в свой конспект,
используйте
просмотр в виде pdf
. Вам доступно 5 стр. из этой главы.
Для продолжения работы требуется
Registration
Предыдущая страница
Следующая страница
Table of contents
Введение
1. Лазерная обработка полупроводников с целью рекристаллизации и отжига
-
1.1. Поглощение лазерного излучения полупроводниками и диэлектриками
1.2. Лазерный отжиг имплантированных слоев
1.3. Лазерное напыление тонких пленок в вакууме
1.4. Осаждение пленок из газовой фазы
1.5. Осаждение пленок из растворов и фотохимический катализ
1.6. Лазерное легирование поверхности полупроводников
2. Технологические процессы лазерной обработки пленок и деталей в микроэлектронике
+
3. Прочие процессы лазерной обработки пленок
+
4. Лазерные установки для обработки пленок
+
Литература
Данный блок поддерживает скрол*