Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Процессы микро- и нанотехнологии. Ионно-плазменные процессы
Лабораторная работа № 3. Исследование закономерностей электронной эмиссии при ионно-лучевом травлении наноразмерных гетероструктур
Предыдущая страница
Следующая страница
Table of contents
Лабораторная работа № 1. Нанесение пленок магнетронным распылением мишеней
+
Лабораторная работа № 2. Формирование металлических пленок методом катодного распыления
+
Лабораторная работа № 3. Исследование закономерностей электронной эмиссии при ионно-лучевом травлении наноразмерных гетероструктур
-
3.2. Экспериментальная часть работы
3.3. Порядок выполнения работы
3.4. Оформление результатов
Контрольные вопросы
Лабораторная работа № 4. Исследование распределения толщины пленок по поверхности подложки и их структурных параметров при ионном распылении мишеней с помощью источника Кауфмана
+
Лабораторная работа №5. Исследование угловой зависимости скорости ионно-лучевого распыления мишени и травления поверхности подложек
+
Лабораторная работа 6. Электроискровое нанесение покрытий
+
Лабораторная работа 7. Плазмохимическое травление диэлектрических пленок
+
Библиографический список
Данный блок поддерживает скрол*