Поиск
Закладки
Озвучивание недоступно Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Упрочнение стальных деталей плазмохимической обработкой

ГЛАВА 4. УСТРОЙСТВА, ПРИМЕНЯЕМЫЕ ДЛЯ ПЛАЗМЕННОЙ ХИМИКО-ТЕРМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ

Предыдущая страница

Следующая страница

ГЛАВА 4. УСТРОЙСТВА, ПРИМЕНЯЕМЫЕ ДЛЯ ПЛАЗМЕННОЙ ХИМИКО-ТЕРМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ
На предыдущую главу Предыдущая глава
оглавление
Следующая глава На следующую главу

Table of contents

ГЛАВА 4. УСТРОЙСТВА, ПРИМЕНЯЕМЫЕ ДЛЯ ПЛАЗМЕННОЙ ХИМИКО-ТЕРМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ-
4.1 Способы нагрева деталей для плазменной химико-термической обработки
4.2. Устройства, создающие плазму в плазменных реакторах для химико-термической обработки
4.2.1. Ионно-лучевое азотирование
4.2.2. Реакторы с тлеющим разрядом
4.2.3 Реакторы, использующие эффект полого катода
4.2.4. ВЧ-источники плазмы
4.2.5. СВЧ-источники плазмы
4.2.6 Реакторы с накаливаемым катодом
4.2.7. Реакторы на основе вакуумно-дугового разряда с накаливаемым катодом
4.2.8. Реакторы с разделением объемов возбуждения плазмы и обработки детали
4.2.9. Реакторы с возбуждением плазмы электронным пучком
4.2.10. Классификация реакторов по виду подаваемого на детали напряжения смещения
4.3. Плазменно-иммерсионная ионная имплантация и ее применение в гибридных процессах химико-термической обработки
4.3.1. Плазменно-иммерсионная ионная имплантация
4.3.2. Гибридный процесс, состоящий из ПИИИ-процесса и обычного плазменного азотирования
4.3.3. Плазменно-иммерсионная ионная имплантация и нанесение слоя из ионов
4.4. Сравнение различных способов азотирования между собой
4.5. Азотирование при поверхностном нагреве деталей
4.5.1. Низкотемпературное азотирование с последующим импульсным нагревом ионами аргона
4.5.2. Применение для азотирования импульсных электронных пучков
4.6. Некоторые способы повышения производительности процесса обработки
4.7. Выводы из главы 4
Данный блок поддерживает скрол*