Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Фотонно-стимулированные технологические процессы микро- и нанотехнологии
9. Лазерная технология создания перспективной элементной базы СБИС. Планаризация микроструктур
/
/
Для продолжения работы требуется
Registration
Предыдущая страница
Следующая страница
Table of contents
Введение
1. Взаимодействие фотонного излучения с полупроводниковой поверхностью
+
2. Рекристаллизация аморфных и поликристаллических кремниевых слоев лазерным излучением
+
3. Лазерное легирование
4. Лазерно-стимулированное формирование контактов
+
5. Лазерно-стимулированное осаждение диэлектрических пленок
+
6. Лазерное осаждение металлов
+
7. Лазерно-стимулированные эпитаксиальные процессы осаждения кремниевых слоев
+
8. Лазерно-стимулированное осаждение эпитаксиальных слоев соединений АIIIВV и АIIВVI
+
9. Лазерная технология создания перспективной элементной базы СБИС. Планаризация микроструктур
-
9.1. Особенности конструкции и технология изготовления перспективных элементов СБИС с использованием лазерного излучения
9.2. Лазерная планаризация структур БИС
Заключение
Список литературы
Данный блок поддерживает скрол*