Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Физико-технологические основы макро-, микро- и наноэлектроники
Глава 3. Управление структурными равновесиями и дефектообразованием в кристаллах
Предыдущая страница
Следующая страница
Table of contents
Предисловие
Введение
Глава 1. Общие принципы термодинамического управления равновесными и неравновесными процессами
+
Глава 2. Управление фазовыми и химическими равновесиями в технологических задачах электроники
+
Глава 3. Управление структурными равновесиями и дефектообразованием в кристаллах
-
3.1. Химические связи в твердых телах
3.2. Классификация пространственных решеток кристаллов
3.3. Пространственная упаковка и координация частиц в кристаллических структурах
3.4. Классификация и свойства атомных дефектов кристаллической структуры
3.5. Точечные дефекты и физические свойства кристаллов
3.6. Квазихимический метод описания дефектов
3.7. Электронно-дырочное равновесие в полупроводниках
3.8. Растворимость примесей в полупроводниках с учетом ионизации примесных атомов
3.9. Взаимодействие заряженных дефектов: компенсация и ассоциация
3.10. Внутреннее равновесие собственных и примесных дефектов
3.11. Управление собственными дефектами путем отжига кристаллов в парогазовой среде
3.12. Распределение амфотерной примеси в кристаллической решетке полупроводников
3.13. Контрольные вопросы
Глава 4. Управление диффузионными и кинетическими процессами в технологических задачах электроники
+
Глава 5. Управление свойствами поверхности, межфазными взаимодействиями и формированием нанообъектов
+
Приложение A. Термодинамические расчеты в технологических задачах электроники
+
Приложение Б. Справочный материал
+
Литература, рекомендуемая для углубленного изучения
Предметный указатель
Данный блок поддерживает скрол*