Поиск
Закладки
Озвучить текст Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Изучение межатомного взаимодействия, образования вакансий и самодиффузии в кристаллах

Глава 5. Метод расчета параметров самодиффузии в структуре простого вещества

5.1. Метод расчета коэффициента самодиффузии в кристалле
Для продолжения работы требуется Registration
На предыдущую страницу

Предыдущая страница

Следующая страница

На следующую страницу
Глава 5. Метод расчета параметров самодиффузии в структуре простого вещества
На предыдущую главу Предыдущая глава
оглавление
Следующая глава На следующую главу

Table of contents

Глава 5. Метод расчета параметров самодиффузии в структуре простого вещества-
5.1. Метод расчета коэффициента самодиффузии в кристалле
5.2. Термодинамические параметры самодиффузии
5.3. О "компенсационных эффектах" для самодиффузии
5.4. Об эмпирических соотношениях для параметров самодиффузии
5.5. Особенности процесса самодиффузии при низких температурах
5.6. Об эффекте "вневакансионной самодиффузии"
5.7. Изменение параметров самодиффузии при плавлении металлов и полупроводников
5.8. Оценка доли делокализованных атомов при плавлении гелия
5.9. Зависимость параметров самодиффузии аргона от температуры
5.10. Расчеты параметров самодиффузии для криокристаллов
5.11. Расчеты параметров самодиффузии для металлов и полупроводников
5.12. О величине самодиффузии в кристалле из Д-атомов
5.13. Зависимость параметров самодиффузии от изотопного состава кристалла
5.14. О пределах выполнимости закона Аррениуса для самодиффузии изотопов
5.15. Выводы
Данный блок поддерживает скрол*