Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Физика СВЧ вакуумно-плазменных нанотехнологий
Глава 4. Характеристики СВЧ-плазмы в магнитном поле
Поставить закладку
§4.1.Методика исследования электронной компоненты СВЧ-плазмы в магнитном поле
Для продолжения работы требуется
Registration
Предыдущая страница
Следующая страница
Table of contents
Введение
Глава 1. Физико-технические основы создания СВЧ плазменных устройств c электронным циклотронным резонансом
+
Глава 2. Взаимодействие электромагнитных волн с плазмой во внешнем магнитном поле
+
Глава 3. Диффузионная модель СВЧ газового разряда и ее применение в технологических процессах
+
Глава 4. Характеристики СВЧ-плазмы в магнитном поле
-
§4.1.Методика исследования электронной компоненты СВЧ-плазмы в магнитном поле
§4.2.Зависимость параметров плазмы от режима генерации
§4.3.Электрические поля в СВЧ-разряде с внешним магнитным полем
§4.4.Эмиссионные характеристики плазмы СВЧ газового разряда
§4.5.Управление параметрами СВЧ ионно-плазменного источника
Глава 5. Сверхвысокочастотное плазмохимическое травление
+
Глава 6. Сверхвысокочастотное плазмохимическое травление кремниевых материалов
+
Глава 7. Плазмохимический СВЧ-синтез низкоразмерных гетероструктур на основе кремния и его соединений
+
Глава 8. Плазмохимический СВЧ-синтез низкоразмерных углеродных структур различных аллотропных модификаций
+
Список литературы
Данный блок поддерживает скрол*