Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Основы технологии электронной компонентной базы: методы контроля характеристик материалов в технологических процессах получения тонкопленочных материалов
Лабораторная работа 2. Измерение удельного сопротивления металлических и полупроводниковых слоев четырехзондовым методом
Предыдущая страница
Следующая страница
Table of contents
Предисловие
Лабораторная работа 1. Измерение предельного вакуума и быстроты действия турбомолекулярного насоса
Лабораторная работа 2. Измерение удельного сопротивления металлических и полупроводниковых слоев четырехзондовым методом
Лабораторная работа 3. Определение глубины залегания p-n перехода методом сферического шлифа
Лабораторная работа 4. Исследование оптических свойств тонкопленочных структур методами спектрофотометрии
Данный блок поддерживает скрол*