1. Математическое моделирование фотолитографических процессов при создании субмикронных структур с нанометровым размером

Поставить закладку

1.1. Оптическая литография. Проекционная литография. Формирование изображения

Если Вы наш подписчик,то для того чтобы скопировать текст этой страницы в свой конспект,
используйте просмотр в виде pdf. Вам доступно 4 стр. из этой главы.

Для продолжения работы требуется Registration

Предыдущая страница

Следующая страница

1. Математическое моделирование фотолитографических процессов при создании субмикронных структур с нанометровым размером -

1.1. Оптическая литография. Проекционная литография. Формирование изображения

1.2. Формирования изображения в фоторезисте. Моделирование

1.3. Экспонирование

1.4. Моделирование процесса травления фоторезиста

1.5. Ограничение оптической литографии

2. Математическое моделирование процессов электронной литографии +

Библиографический список

Данный блок поддерживает скрол*

1. Математическое моделирование фотолитографических процессов при создании субмикронных структур с нанометровым размером

Table of contents