Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Элионная технология в микро- и наноиндустрии : неразрушающие методы контроля процессов осаждения и травления наноразмерных пленочных гетерокомпозиций
3. Вторичная ионно-электронная эмиссия в процессе ионно-лучевого травления наноразмерных гетерокомпозиций
Поставить закладку
3.1. Методика определения вторичной ионно-электронной эмиссии
Если Вы наш подписчик,то для того чтобы скопировать текст этой страницы в свой конспект,
используйте
просмотр в виде pdf
. Вам доступно 7 стр. из этой главы.
Для продолжения работы требуется
Registration
Предыдущая страница
Следующая страница
Table of contents
Перечень сокращений
Введение
1. Традиционные методы и способы контроля процессов ионно-плазменной обработки материалов электронной техники
+
2. Ионно-индуцированный ток в многослойных наноразмерных пленочных гетероструктурах в процессах ионно-лучевого нанесения и травления
+
3. Вторичная ионно-электронная эмиссия в процессе ионно-лучевого травления наноразмерных гетерокомпозиций
-
3.1. Методика определения вторичной ионно-электронной эмиссии
3.2. Закономерности изменения тока вторичных электронов при ионном травлении металлических пленок
3.3. Закономерности изменения тока вторичных электронов при ионном травлении полупроводников
3.4. Закономерности изменения тока вторичных электронов при ионном травлении диэлектриков
3.5. Феноменологическая модель возникновения ионно-электронной эмиссии
Контрольные вопросы
Домашние задания
Заключение
Библиографический список
Данный блок поддерживает скрол*