Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Технология тонких пленок для микро- и наноэлектроники
Глава 1. Основные тенденции развития методов ХОГФ тонких пленок из газовой фазы
/
/
Для продолжения работы требуется
Registration
Предыдущая страница
Следующая страница
Table of contents
Введение
Глава 1. Основные тенденции развития методов ХОГФ тонких пленок из газовой фазы
-
Заключение по главе 1
Вопросы для самопроверки по главе 1
Дополнительная литература к главе 1
Глава 2. Общая характеристика методов ХОГФ
+
Глава 3. Параметры аппаратуры и процессов ХОГФ
+
Глава 4. Методология и исследования кинетики роста тонких пленок при ХОГФ
+
Глава 5. Обобщения и практические рекомендации для решения технологических задач
+
Библиографический список
Данный блок поддерживает скрол*