Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Основы конструирования вакуумных плазменных установок
3. Потоки нейтральных и заряженных частиц в плазменном PVD-процессе
Поставить закладку
Если Вы наш подписчик,то для того чтобы скопировать текст этой страницы в свой конспект,
используйте
просмотр в виде pdf
. Вам доступно 5 стр. из этой главы.
Для продолжения работы требуется
Registration
Предыдущая страница
Следующая страница
Table of contents
Введение
1. Основные понятия вакуумной техники: быстрота откачки, быстрота действия, сопротивление и проводимость трубопровода
+
2. Вакуумные насосы
+
3. Потоки нейтральных и заряженных частиц в плазменном PVD-процессе
-
3.1. Поток газа в трубопроводе
3.2. Ионизация газового потока и выражение его расхода в эквивалентных амперах
3.3. Потоки заряженных частиц, истекающих из плазмы
3.4. Параметры двух основных технологических операций, выполняемых с помощью ионного пучка
4. Откачка вакуумных систем
Литература
Данный блок поддерживает скрол*