Поиск

Закладки

Озвучивание недоступно

Озвучить книгу

Изменить режим чтения

Изменить размер шрифта

Оглавление

Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.

Основы конструирования вакуумных плазменных установок

1. Основные понятия вакуумной техники: быстрота откачки, быстрота действия, сопротивление и проводимость трубопровода

Предыдущая страница

Следующая страница

Table of contents

Введение

1. Основные понятия вакуумной техники: быстрота откачки, быстрота действия, сопротивление и проводимость трубопровода -

1.1. Основное уравнение вакуумной техники

1.2. Дифференциальное уравнение откачки. Расчет длительности форвакуумной откачки с учетом натекания

1.3. Остаточное давление в камере. Потоки натекания. Истинные и кажущиеся течи. Адсорбция и десорбция газов. Расчет длительности высоковакуумной откачки

2. Вакуумные насосы +

3. Потоки нейтральных и заряженных частиц в плазменном PVD-процессе +

4. Откачка вакуумных систем

Литература

Данный блок поддерживает скрол*