Справка
x
Поиск
Закладки
Озвучить книгу
Изменить режим чтения
Изменить размер шрифта
Оглавление
Для озвучивания и цитирования книги перейдите в режим постраничного просмотра.
Физические основы кремниевой наноэлектроники
Глава 4. Вольт-амперные характеристики МОПТ
Предыдущая страница
Следующая страница
Table of contents
Предисловие
Глава 1. Базисные физические уравнения
+
Глава 2. Особенности приборов КМОП-технологии
+
Глава 3. Структуры металл-окисел-полупроводник
+
Глава 4. Вольт-амперные характеристики МОПТ
-
4.1. Затворное напряжение как функция поверхностного потенциала в подпороговой области
4.2. Плотность носителей в канале как функция затворного напряжения в форме интерполяции (модель BSIM3)
4.3. Подпороговый размах напряжения
4.4. Статические подпороговые токи утечки
4.5. Влияние обратного смещения на подложке
4.6. Пороговое напряжение при обратном смещении на подложке
4.7. Зависимость порогового напряжения от обратного смещения на подложке
4.8. Важность эффекта подложки в реальных схемах
4.9. Напряжение между стоком и истоком
4.10. Приближение плавного канала
4.11. Плотность электронов вдоль канала при VDS > 0
4.12. Простейшая модель ВАХ МОПТ
4.13. Насыщение скорости носителей в канале
4.14. Механизмы насыщения тока канала
4.15. Формула для ВАХ МОП-транзистора с учетом насыщения дрейфовой скорости (модель BSIM3-4)
4.16. Ток насыщения МОПТ
Глава 5. Физические процессы в каналах МОПТ
+
Глава 6. Эффекты сильных электрических полей
+
Глава 7. Диффузионно-дрейфовая модель тока в МОПТ
+
Глава 8. Транзисторы технологии "кремний-на-изоляторе"
+
Глава 9. Моделирование транзисторов КНИ-технологий
+
Глава 10. Токи утечки в наноэлектронных структурах
+
Глава 11. Мезоскопические эффекты в наноэлектронных структурах
+
Литература
Приложения
Данный блок поддерживает скрол*