Тема 2. Вакуум-плазменное нанесение тонких пленок

Поставить закладку

2.1. Характеристика и этапы процесса ионно-плазменного нанесения слоев

Если Вы наш подписчик,то для того чтобы скопировать текст этой страницы в свой конспект,
используйте просмотр в виде pdf. Вам доступно 3 стр. из этой главы.

Для продолжения работы требуется Registration

Предыдущая страница

Следующая страница

Тема 1. Вакуум-плазменные процессы травления материалов +

Тема 2. Вакуум-плазменное нанесение тонких пленок -

2.1. Характеристика и этапы процесса ионно-плазменного нанесения слоев

2.2. Реактивное ионно-лучевое нанесение материалов

2.3. Энергетические особенности ионно-стимулируемого нанесения пленок

2.4. Структурообразование в пленках при ионно-плазменном нанесении пленок

Тема 3. Ионный синтез и ионная кристаллизация +

Тема 4. Возможности ионно-плазменных процессов для создания элементов микро- и наноэлектроники +

Заключение
Библиографический список

Данный блок поддерживает скрол*

Тема 2. Вакуум-плазменное нанесение тонких пленок

Table of contents