АвторыКузнецов Г.Д., Кушхов А.Р.
Ионно-плазменная обработка материалов
ИздательствоМИСиС
Тип изданияучебное пособие
Год издания2008
Скопировать биб. запись
Для каталогаКузнецов, Г. Д. , Ионно-плазменная обработка материалов : Курс лекций / Кузнецов Г. Д. , Кушхов А. Р. - Москва : МИСиС, 2008. - 180 с. - Текст : электронный // ЭБС "Консультант студента" : [сайт]. - URL : https://www.studentlibrary.ru/book/Misis_146.html (дата обращения: 31.12.2024). - Режим доступа : по подписке.
АннотацияВ курсе лекций рассматриваются основные ионно-плазменные процессы в технологии микро- и наноэлектроники. Приводится классификация процессов травления и осаждения тонких пленок материалов электронной техники и гетероструктур на их основе. Рассматриваются особенности селективного и анизотропного травления наноразмерных слоистых материалов при различных способах вакуум-плазменных процессов. Обсуждаются проблемы получения химически чистой поверхности подложек, а также возможные случаи повреждения и изменения шероховатости приповерхностного слоя. Анализируются возможности ионного синтеза и кристаллизации пленок при различных условиях ионного воздействия на поверхность обрабатываемого материала. Приводятся примеры использования ионно-плазменных процессов для создания элементов микро- и наноэлектроники. <br>Курс лекций подготовлен по рекомендации горно-металлургической секции РАЕН. <br>Содержание соответствует государственному образовательному стандарту по направлению "Электроника и микроэлектроника".<br> Предназначено для студентов (бакалавров и магистров), обучающихся по направлениям 210100 "Электроника и микроэлектроника", 210600 "Нанотехнология".