АвторыКожитов Л.В., Крапухин В.В., Улыбин В.А.
Технология эпитаксиальных слоев и гетерокомпозоций
ИздательствоМИСиС
Тип изданиямонография
Год издания2001
Скопировать биб. запись
Для каталогаКожитов, Л. В. Технология эпитаксиальных слоев и гетерокомпозоций : Учеб. -метод, пособие / Кожитов Л. В. , Крапухин В. В. , Улыбин В. А. - Москва : МИСиС, 2001. - 158 с. - Текст : электронный // ЭБС "Консультант студента" : [сайт]. - URL : https://www.studentlibrary.ru/book/Misis_110.html (дата обращения: 16.11.2024). - Режим доступа : по подписке.
АннотацияДаны краткая история и пути и перспективы развития микроэлектроники, в частности, в области технологии эпитаксиальных гетерокомпозиций. <br>Кратко описаны процессы парофазной эпитаксии химическим осаждением и жидкофазной эпитаксии кремния, соединений ΑΙΠΒν и их твердых растворов, применяемого оборудования. Приведены математические модели этих процессов, включающие термодинамический и кинетический блоки. При получении гетерокомпозиций учитываются упругие напряжения и рассматриваются пути их устранения, в частности, создание изопериодных композиций и сверхрешеток. <br>Кроме того, приведены восемь комплексных задач для самостоятельного вычислительного эксперимента при выборе параметров процесса, а также процедура решения задач с использованием разработанного пакета программ на ПЭВМ. <br>Предназначено для студентов, обучающихся по специальности 200100 (направление 654100), а также для научных сотрудников и инженеровтехнологов, занимающихся разработкой систем управления и оптимизации технологических процессов.